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OTF-1200X80-HPV-III-GF是一款高溫高壓管式爐，爐體擁有三個溫區(qū)。儀器中配有氣體控制柜，可使?fàn)t管內(nèi)的氣壓在升降溫過程中保持恒定，特別是對于氧化物的處理，可使?fàn)t管內(nèi)的氧分壓保持恒定。爐管采用高溫鎳基合金鋼制作，Z高可耐溫1100℃。此款高溫高壓爐特意設(shè)計為氧化物超導(dǎo)線和氧化物陶瓷進(jìn)行熱處理。

OTF-1200X-4-C4LVS 雙管爐是 一個特殊的雙管CVD系統(tǒng),是專門為在金屬箔上生長薄膜而設(shè)計,特別是應(yīng)用在新一代能源關(guān)于柔性金屬箔電極方面的研究，通過滑動爐子實(shí)現(xiàn)快速加熱和冷卻。請點(diǎn)擊下圖觀看爐子的工作原理。

單管滑動快速加熱冷卻爐OTF-1200X-80SL是一款CE認(rèn)證的可滑動管式爐，配置dia3”x55” 石英管，工作溫度Z高達(dá)1200°C。爐底安裝一對滑軌，可用手動滑動。加熱和冷卻速率Z大可達(dá)100°C/m。為取得Z快加熱，可以預(yù)先加熱爐子到設(shè)定的溫度，然后移動爐子到樣品位置。為獲得Z快冷卻，可在樣品加熱后移動爐子到另一端。加熱和冷卻速率在真空或者惰性氣體環(huán)境下可以達(dá)到10°C/s，是低成本快

OTF-1200X-4-RTP 是一款精巧型快速熱處理管式爐，配有4“ 石英管和真空法蘭， 它是專為半導(dǎo)體或太陽能電池基片（Z大達(dá)3“）的退火而設(shè)計，采用10KW紅外燈管加熱Z快升溫速度為 50°C/秒. 30 段溫度控制，精度為 +/-1°C. 計算機(jī)通過RS485口和控制軟件實(shí)時控制爐子和顯示溫度曲線 。

OTF-1200X-4-R--Ⅱ是一款通過CE認(rèn)證的雙溫區(qū)可旋轉(zhuǎn)管式爐，此款設(shè)備專門針對于材料的混合燒結(jié)，特別適用于鋰離子電池材料的混合燒結(jié)，如 LiFePO4、LiMnNiO4等。設(shè)備爐管直徑為4“，采用兩個溫區(qū)進(jìn)行加熱可以提供更長的加熱區(qū)域和恒溫區(qū)。

GSL-1100X-6-S 是一款爐管內(nèi)徑為 6“ 的真空管式爐 , 它可以在Z大5“的基片上生長多種薄膜（在不同氣氛下）. 該爐的Z高工作溫度為 1100°C, 采用30段可編程PID數(shù)字溫度控制器，溫控精度: ±1°C。