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300W射頻等離子磁控濺射鍍膜儀--VTC-2RF

簡要描述：VTC-2RF是一款小型的射頻（RF）等離子體磁控濺射鍍膜儀系統(tǒng)，系統(tǒng)中包含了所有所需的配件，如300W（13.5MHz）的RF電源、2“的磁控濺射頭、石英真空腔體、真空泵和溫度控制器等。對于制作一些金屬薄膜及非金屬薄膜，它是一款物美價(jià)廉的實(shí)驗(yàn)幫手。

  • 產(chǎn)品型號：
  • 廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間：2024-10-21
  • 訪  問  量：3403

詳細(xì)介紹

   VTC-2RF是一款小型的射頻（RF）等離子體磁控濺射鍍膜儀系統(tǒng)，系統(tǒng)中包含了所有所需的配件，如300W（13.5MHz）的RF電源、2"的磁控濺射頭、石英真空腔體、真空泵和溫度控制器等。對于制作一些金屬薄膜及非金屬薄膜，它是一款物美價(jià)廉的實(shí)驗(yàn)幫手。
我們用此設(shè)備得到擇優(yōu)取向的ZnO薄膜


技術(shù)參數(shù)

輸入電源

  • 220VAC 50/60Hz, 單相
  • 800W  (包括真空泵）

等離子源

一個(gè)300W，13.5MHz的射頻電源安裝在移動柜內(nèi)

(點(diǎn)擊圖片查看詳細(xì)資料）


磁控濺射頭

  • 一個(gè) 2英寸磁控濺射頭（帶有水冷夾層），采用快速接頭與真空腔體相連接
  • 靶材尺寸: 直徑為50mm,zui大厚度6.35mm
  • 一個(gè)快速擋板安裝在法蘭上（手動操作，見圖左3）
  • 濺射頭所需冷卻水：流速10ml/min（儀器中配有一臺流速為16ml/min的循環(huán)水冷機(jī)）
  • 同時(shí)可選配1英寸濺射頭

真空腔體

  • 真空腔體：160 mm OD x 150 mm ID x  250mm H，采用高純石英制作
  • 密封法蘭:直徑為165 mm .  采用金屬鋁制作，采用硅膠密封圈密封
  • 一個(gè)不銹鋼網(wǎng)罩住整個(gè)石英腔體，以屏蔽等離子體
  • 真空度：10-3 Torr （采用雙極旋片真空泵）
  •         10-5 torr （采渦旋分子泵）

載樣臺

  • 載樣臺可旋轉(zhuǎn)（為了制膜更加均勻）并可加熱
  • 載樣臺尺寸：直徑50mm （zui大可放置2英寸的基片）
  • 旋轉(zhuǎn)速度：1 - 20 rpm
  • 樣品的zui高加熱溫度為700℃，(短期使用，恒溫不超過1小時(shí))，長期使用溫度500℃
  • 控溫精度+/- 10℃

真空泵

可選用直聯(lián)式雙極旋片泵,也可選用德國制作的分子泵系統(tǒng)

   

薄膜測厚儀

  • 一個(gè)精密的石英振動薄膜測厚儀安裝在儀器上，可實(shí)時(shí)監(jiān)控薄膜的厚度，分辨率為0.10 ?  
  • LED顯示屏顯示，同時(shí)也輸入所制作薄膜的相關(guān)數(shù)據(jù)

外形尺寸

             

質(zhì)保和質(zhì)量認(rèn)證

  • 一年質(zhì)保期，終生維護(hù)
  • CE認(rèn)證

使用注意事項(xiàng)

  • 這款2英寸的射頻濺射鍍膜儀主要是用于在單晶基片上制備氧化物膜，所以并不需要太高的真空度
  • 為了較好地排出真空腔體中的氧氣，建議用5%H2+95 %N2對真空腔體清洗，可有效減少真空腔體中的氧含量
  • 請用純度大于5N的Ar來進(jìn)行等離子濺射，甚至5N的Ar中也含有10- 100 ppm的氧和水，所以建議將鋼瓶中的惰性氣體通過凈化系統(tǒng)過后，再導(dǎo)入到真空腔體內(nèi)



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