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箱式爐主要供合金鋼制品、各種金屬機件正火、淬火、退火等熱處理之用，或金剛石等切割刀片進行高溫?zé)Y(jié)用途。廣泛用于陶瓷、冶金、電子、玻璃、化工、機械、耐火材料、新材料開發(fā)、特種材料、建材等領(lǐng)域的生產(chǎn)及實驗。熱電偶將爐溫轉(zhuǎn)變成電壓信號后，加在微電腦溫度控制調(diào)節(jié)儀上。調(diào)節(jié)儀將此信號與程控設(shè)定相比較，輸出一個可調(diào)信號。再用可調(diào)信號控制觸發(fā)器，再有觸發(fā)器觸發(fā)調(diào)壓器，達到調(diào)節(jié)電爐電壓和電爐溫度的目的。箱式爐的維護注意事項1.爐子使用或長時間不用后，要在120℃左右烘烤1小時，在300℃左右...

1200℃開啟式管式爐具有基礎(chǔ)溫度低、沉積速度快、成膜質(zhì)量好、針孔少、不易開裂等優(yōu)點；在此過程中，由于等離子體中的高速電子撞擊中性反應(yīng)氣體分子，中性反應(yīng)氣體分子會變成碎片或處于活化狀態(tài)，容易發(fā)生反應(yīng)；在射頻的幫助下，含有薄膜原子的氣體在局部形成等離子體，等離子體具有很強的化學(xué)活性，易于反應(yīng)在基板上沉積所需的薄膜；高真空系統(tǒng)由兩級旋片真空泵和分子泵組成，真空度可達0.001pa；數(shù)字質(zhì)量流量控制系統(tǒng)由多通道質(zhì)量流量計和流量顯示儀表組成，實現(xiàn)氣體流量的精確測量和控制；每條燃?xì)夤艿?..

管式爐主要運用于冶金，玻璃，熱處理，鋰電正負(fù)極材料，新能源，磨具等行業(yè)，測定材料在一定氣溫條件下的專業(yè)設(shè)備。爐型結(jié)構(gòu)簡單，操作容易，便于控制，能連續(xù)生產(chǎn)。管式爐使用的注意事項注意一電爐操作工應(yīng)具備國家相應(yīng)電氣設(shè)備操作資格，并熟讀隨機儀表說明書等技術(shù)文件!溫度系統(tǒng)操作:用戶開關(guān)板給電爐送電，此時程序表得電，按溫度儀表(如右圖)說明書設(shè)定儀表(如P、I、D參數(shù))，按工藝要求編制加熱程序，打開加熱旋鈕,使加熱功率到達6KW。加熱功率可按下式計算:加熱功率=儀表電壓×儀表電流正常加熱...

就像把石頭扔進平靜的湖水會濺出水一樣，用高速離子轟擊固體表面會使近表面的原子（或分子）從固體表面逃逸。這種現(xiàn)象稱為濺射現(xiàn)象。濺射意味著具有足夠高能量的粒子轟擊固體表面以發(fā)射原子。早期的人們認(rèn)為，這種現(xiàn)象源于目標(biāo)的局部加熱。然而，人們發(fā)現(xiàn)濺射和蒸發(fā)有本質(zhì)區(qū)別，人們逐漸認(rèn)識到濺射是轟擊粒子與靶粒子之間動量傳遞的結(jié)果。小型磁控射頻濺射鍍膜儀磁控濺射利用磁場束縛電子的運動，提高電子的電離率。與傳統(tǒng)濺射相比，具有“低溫”和“高速”兩大特點。磁控射頻濺射鍍膜儀具有小型化、標(biāo)準(zhǔn)化的特點。磁...

高真空蒸發(fā)鍍膜儀采用前開門真空室設(shè)計，室高增加到500mm。樣品臺與蒸發(fā)源之間的距離有較大的調(diào)節(jié)范圍，可適應(yīng)多種蒸發(fā)要求，避免樣品在蒸發(fā)源中高處損壞。高真空蒸發(fā)鍍膜儀配有四套鎢舟蒸發(fā)源和水冷銅電極。每個蒸發(fā)源支持100A的大電流和1800°C的加熱溫度，可實現(xiàn)多層涂裝或多種材料混合涂裝。型腔采用上樣品臺，樣品臺可旋轉(zhuǎn)、加熱、升降，所有操作均可通過觸摸屏集成控制。設(shè)備真空系統(tǒng)為兩級旋片泵和渦輪分子泵組成的兩級真空系統(tǒng)，可提供潔凈無油的高真空環(huán)境。該設(shè)備配有氣動閥門系統(tǒng)。通過操作...

多功能試樣表面處理機是一種用于掃描電子顯微鏡和電子探針樣品制備的設(shè)備?？稍诟呒儦鍤獗Ｗo下進行多種離子處理。也可以對碳和金屬進行真空蒸鍍。該設(shè)備處理的樣品既可用于樣品的形貌觀察，也可用于成分分析。尤其是成分的定量分析更適合。該設(shè)備采用分子泵和機械泵組成的高真空單元系統(tǒng)。試樣以三種方式移動：平面旋轉(zhuǎn)、傾斜旋轉(zhuǎn)和傾斜進動。多功能試樣表面處理機功能可以賦予材料新的表面特性。這些特性隨時間逐漸衰減的特性稱為老化。一般認(rèn)為，等離子體表面處理對材料的影響涉及到表面活化、交聯(lián)、表面蝕刻等多個...

熱噴涂鍍膜設(shè)備濺射鍍膜是將基體和靶材置于真空腔內(nèi)，用電子或高能激光轟擊靶材，使表面成分以原子團或離子的形式濺射出來，沉積在表面基板，通過成膜工藝形成薄膜。粉末壓制燒結(jié)法和粉末熱等靜壓法常用于小尺寸平面靶材的生產(chǎn)。前者制作的靶材純度較低，而后者制作工藝復(fù)雜，特別是在合金靶材的生產(chǎn)中，成分不*均勻。靶材的大尺寸和高利用率是涂層領(lǐng)域的新趨勢，熱噴涂鍍膜設(shè)備等離子噴涂的諸多特點顯示出其在生產(chǎn)大尺寸、高利用率靶材方面的*優(yōu)勢。1、等離子噴涂火焰溫度高，熱量集中，幾乎可以熔化所有高熔點粉...