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1200℃開啟式管式爐以新型鐵鉻鋁高溫電阻絲或硅鉬棒為發(fā)熱元件,測溫元件采用K分度熱電偶,控溫方式有自動恒溫和程序控溫兩種。采用雙層風(fēng)冷結(jié)構(gòu),爐體表面溫度≤60℃,爐膛采用高純度氧化鋁微晶纖維高溫真空吸附成型。內(nèi)爐膛表面涂有美國進(jìn)口的1750度高溫氧化鋁涂層可以提高反射率及設(shè)備的加熱效率,同時也可以延長儀器的使用壽命。1200℃開啟式管式爐采用新型隔熱保溫材料,具有測溫精度高、控溫準(zhǔn)確、熱導(dǎo)率低、節(jié)能、美觀大方等特點,供實驗室、工礦企業(yè)、科研院所等單位用于金屬、非金屬、合金、...
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真空管式爐均系周期作業(yè)式。供實驗室、工礦企業(yè)、科研單位作元素分析測定和一般小型鋼件的淬火、退火、回火和電子陶瓷等新材料的加熱用。由于真空管式爐廣泛用于耐火材料、電子、陶瓷、冶金、機(jī)器、建材、特種材料、新材料開發(fā)等領(lǐng)域的試驗和生產(chǎn)中,避免不了產(chǎn)生爐管結(jié)碳渣或者結(jié)焦等情況,面對此問題窯爐生產(chǎn)廠家通常的清洗方法有物理清洗法和化學(xué)清洗法2種。物理清洗采用機(jī)械力將管道內(nèi)積存的碳渣擊碎,再用高速氣流將碎渣吹出,使管道暢通?;瘜W(xué)清洗是通過化學(xué)反應(yīng)破壞碳渣的結(jié)構(gòu)或者與碳渣發(fā)生反應(yīng),達(dá)到清渣的...
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高真空蒸發(fā)鍍膜儀,特別適合蒸鍍一些對氧較敏感的金屬膜,如Ti,Al和Au等,也可蒸鍍各種氧化物材料。此款蒸鍍儀安裝有4個蒸鍍加熱頭.對于實驗研究,這是一款鍍膜效果理想并且性價比較高的實驗設(shè)備。高真空蒸發(fā)鍍膜儀要在真空條件下工作,真空對環(huán)境的要求,一般包括真空設(shè)備對所處實驗室(或車間)的溫度、空氣中的微粒等周圍環(huán)境的要求,和對處于真空狀態(tài)或真空中的零件或表面要求兩個方面。這兩個方面是有密切的。周圍環(huán)境的好壞直接影響真空設(shè)備的正常使用;而真空設(shè)備的真空室或裝入里面的零件是否清洗,...
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高真空蒸發(fā)鍍膜儀工藝鍍前預(yù)處理和鍍后處理——江西穗誠科技科技有限公司除了為您提供我們的真空鍍膜設(shè)備外,還提供全面的、范圍廣泛的服務(wù)包和技術(shù)服務(wù)。借助于這些成熟的技術(shù)服務(wù),您將能夠成功地使用您的高品質(zhì)涂層技術(shù)并從中獲益。為您提供準(zhǔn)確、出色的服務(wù)是我們公司理念中極為重要的組成部分。電鍍工藝過程一般包括電鍍前預(yù)處理、電鍍及鍍后處理。1、鍍前預(yù)處理:鍍前預(yù)處理的目的是為了得到干凈新鮮的金屬表面,為zui后獲得高質(zhì)量鍍層作準(zhǔn)備.要進(jìn)行脫脂、去銹蝕、去灰塵等工作。步驟如下:*步;使表面粗...
9-13
下面是幾種能夠造成熱噴涂鍍膜設(shè)備噴嘴失效的原因,希望對大家有所幫助。1、溫度:噴嘴在高溫或異常溫度的環(huán)境下長時間的工作工作,會導(dǎo)致噴嘴材料軟化進(jìn)而損壞。2、阻塞:化學(xué)材料和雜質(zhì)在噴嘴內(nèi)的堆積很有可能造成噴嘴阻塞。極大地影響噴嘴的噴霧形狀,從而影響噴淋壓力。3、意外損害:不正確的使用方法和不能及時進(jìn)行保養(yǎng)是導(dǎo)致噴嘴意外損害的zui主要原因。盡管噴嘴口通常設(shè)計成凹式,但扇形噴嘴的偏移結(jié)構(gòu)卻很容易受到損害。4、侵蝕:高流速的液體經(jīng)過噴嘴孔時,會對噴嘴孔產(chǎn)生很強(qiáng)侵蝕,會造成噴嘴壓力降...
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高真空蒸發(fā)鍍膜儀在實驗室制備金屬膜、有機(jī)膜等方面有著廣泛的應(yīng)用。要想保證高真空蒸發(fā)鍍膜儀的正常運(yùn)行,就必須保證高真空蒸發(fā)鍍膜儀沒有漏氣現(xiàn)象?,F(xiàn)在成越科儀就給大家介紹一下檢查高真空蒸發(fā)鍍膜儀是否漏氣的方法。查看漏氣狀況是確保高真空蒸發(fā)鍍膜儀真空度的一項查看辦法,簡稱檢漏,真空度的凹凸是直接影響到鍍膜作用的,所以檢漏是*的。通常高真空蒸發(fā)鍍膜儀真空室內(nèi)漏氣都是從室壁上的一些小孔或部件之前的銜接位細(xì)縫中發(fā)生,當(dāng)抽氣體系抽氣后使真空室內(nèi)壓強(qiáng)降低,外部與內(nèi)部的壓強(qiáng)差使氣體從壓強(qiáng)高的外部...
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一般來說高真空蒸發(fā)鍍膜儀就是將靶材在真空的環(huán)境下加以高溫,使其以原子團(tuán)或者離子的形式被蒸發(fā)出來,然后在將基片防于真空倉中讓這些原子團(tuán)或離子沉淀在基片之上,在沉淀的過程中我們還能通過我們的需要來改變靶材的沉淀情況。在線光密度檢測儀能真空鍍膜生產(chǎn)的過程中進(jìn)行鍍膜厚均勻性的監(jiān)測;選擇真空鍍膜就是想要在基片上均勻的鍍上膜,靶材厚度的均勻性就決定了鍍膜的品質(zhì),鍍膜生產(chǎn)過程中我們可以使用透光率光密度檢測儀來進(jìn)行在線測試,通過光譜里的紅外線透過率、紫外線透過率以及可見光穿透率來進(jìn)行監(jiān)控感應(yīng)...
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